铜是电子工程的重要材料，其电阻率也受到大众的极力关注。根据统计，纯净铜的电阻率约为1.7 x 10^-8欧·米。由于电阻率对工程应用有重要作用，因此近年来有许多研究对这一指标做了进一步的研究。
研究发现，长期机械挤压对铜的电阻率会有显著的影响，因此需要更多的分析来了解其影响机制。考虑到不同尺寸的零件，以及裂纹对铜电阻率的影响，有关人员采用了电弧涡流技术，发现了裂纹对电阻率的影响，并对其形变性能做出了正确的分析。
另外，研究者还对热处理对铜电阻率影响大的因素进行了系统考察，发现氧化形貌对电阻率起着至关重要的作用，从而为铜的电阻率研究提供了有价值的参考依据。
综上所述，铜的电阻率不仅是众多电子工程的重要参考指标，近几年的研究发现，机械挤压、尺寸裂纹以及热处理等因素也大大影响着其电阻率的大小，因此有必要深入研究这些因素。
