晶体管的饱和区:工作特性研究

日期: 栏目:晶体管 阅读:0
晶体管的饱和区:工作特性研究

晶体管是一种半导体元件,能够根据输入信号的输入电压调节输出功率。它有两种基本操作模式:非饱和区和饱和区, 晶体管在采用不同的输入信号时不同的工作区域也会有显著的差别。本文着重讨论晶体管在饱和区的工作特性

晶体管的饱和区在不同的晶体管器件中有自己不同的特点,总体上主要存在以下不同之处:

首先,晶体管在饱和区中的放大倍数降低,只有有限的放大和输出驱动能力,一般在1至10倍之间。

其次,在饱和区下,晶体管的次谐振频率会变得越来越低,由于晶体管的饱和功能更强,当大信号引入时,晶体管会转变到饱和状态,导致发射失去控制,从而减少放大能力。

最后,在饱和区的动态响应影响,由于负压变小,过载响应能力会下降,这对于测量和控制系统的稳定性有不利影响。

以上就是晶体管饱和区工作特性的一些基本情况,尽管各种市场上正常晶体管的饱和特性有所不同,但是饱和状态不容忽视,必须重视并且加以研究才能使系统可靠性更高。

标签: